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      網站首頁 » 設備展示 » PVD真空電鍍爐
      PVD真空電鍍爐
      作者:handler   時間:2017-07-17 09-24-09

      真空蒸鍍基本原理是在真空條件下,使金屬、金屬合金或化合物蒸發,然后沉積在基體表面上,蒸發的方法常用電阻加熱,高頻感應加熱,電子束、激光束、離子束高能轟擊鍍料,使蒸發成氣相,然后沉積在基體表面,歷史上,真空蒸鍍是PVD法中使用最早的技術。

      物理氣相沉積技術工藝過程簡單,對環境改善,無污染,耗材少,成膜均勻致密,與基體的結合力強。該技術廣泛應用于航空航天、電子、光學、機械、建筑、輕工、冶金、材料等領域,可制備具有耐磨、耐腐飾、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層

      PVD真空電鍍特性

      、鍍膜特性 卓越的附著力 – 可以折彎90度以上不發生裂化或者剝落(PVD鍍膜持有很高附著力和耐久力)。其它的技術,包括電鍍,噴涂都不能與其相比。 可以蝕刻出任何能夠想象出的設計圖案/可以使用在內裝修或者室外 抗氧化,抗腐蝕。 C、PVD膜層...


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